・필름 마스크・유리 마스크를 사용

유리 마스크와 필름 마스크는 모두 패턴 마스크로 사용 가능

・３０μm 크기의 미세 패턴의 노광이 가능

고정밀 로드 인티그레이터와 콜리메이션 미러를 이용해 정밀도 높은 노광이 가능

・미세 패턴・고어스팩트 현상에 대응

현상액을 미스트화한 후 분사하여 현상하기 때문에 미세한 틈새에도 현상액이 들어가, 현상 시에도 팽윤이 적어 후막의 샌드블라스트용 포토 레지스트를 사용하여 미세한 패턴 형성이 가능

・알칼리 현상・유기 용제 현상에 대응

샌드블라스트용 드라이 필름을 사용하는 경우에는 알칼리 현상액을 사용하고, 샌드블라스트용 액상 레지스트를 사용할 때는 유기 용제 현상액을 사용

・액상 레지스트 및 보호막 등을 도포

액상 레지스트 및 보호막 등을 원심력을 이용해 일정한 막압으로 도포

・패널에서 도포 조건의 입력 가능

테이블 회전 시간 및 도포 시간 등은 터치 패널에서 입력 가능