포토 레지스트 현상 시, 기존에는 노광되는 부분에도 현상액이 침투되어 팽윤하였기 때문에 미세한 패턴을 형성할 수 없었음. 미스트 제트용 노즐에서 분사된 소량의 현상액을 고압 에어로 미스트화하고, 이러한 미스트가 고압 에어로 가속되면서 분사되면 포토 레지스트의 팽윤을 최소한으로 억제하면서 현상하여 보다 미세한 패턴의 현상이 가능해짐.

・wet 에칭 또는 전기 도금용 드라이 필름의 현상

・샌드블라스트용 필름의 현상

・wet 에칭 또는 전기 주조(도금)용 드라이 필름의 현상

스크린판의 현상에서는 기존의 스크린판 현상기에 비해 1/10 이하의 물을 사용하므로 패턴이 두꺼워지는 경우가 없어 기존의 현상기보다 미세한 패턴의 스크린 제판이 가능해짐.

・샌드블라스트용 액상 레지스트 현상

유기 용제계 현상액(물을 섞어 인화점을 없앰)을 고압 미스트화하여 현상하면 샌드블라스트의 내성이 높아져 미세한 샌드블라스트용 레지스트 막을 형성할 수 있음.

・기타 감광성 수지의 현상

감광성 전극 재료나 감광성 폴리이미드 등, 감광성 재료의 패턴 형성에서 기존의 현상보다 미세한 패턴을 형성할 수 있음.