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건식 분체 연마 가공(DPP 가공) 용도
   박막 태양 전지의 엣지 제거 가공
 

샌드블라스트 가공에 비해 면조도 향상 

기존의 샌드블라스트 가공을 이용한 엣지 제거 가공과 비교했을 면조도를 1/3 이하로 낮출 있고 가공 효율은 동일하며, 기판에 연마재가 들러붙는 현상을 억제할 있음.

 

샌드블라스트 가공보다 낮은 비용으로  처리 가능

기존의 샌드블라스트를 이용한 엣지 제거 가공과 조도가 동일해도 상관없는 경우, 연마재의 입도를 크게할 있으므로 가공 TACT 향상 시킬 있음.

 

간편한 유지 보수

캐비닛이 필요 없기 때문에 장치의 유지 보수가 간편함.

 

마스크 없이 엣지 제거 가공 가능

기판에 마스크를 부착하거나 마스크용 플레이트를 적재할 필요가 없어 마스크 없이 엣지 제거 가공이 가능.

 

샌드블라스트 가공에 비해 연마재의 소모가 적음

기판 표면에서 연마재를 사용하기 때문에 바로 위에서 분사되는 샌드블라스트와 비교했을 연마재의 손상이 적어 연마재의 소모를 줄일 있음.

   
  결정계 태양 전지의 연삭흔 제거
 

기판 표면에서 연마재를 사용하기 때문에 낮은 비용으로 기판 표면의 연마 가공이 가능


투명 전극의 패턴 형성
 
미세 샌드블라스트 가공 후의 표면 연마 가공

프린트 기판 동표면의 전처리

금속 표면의 산화막 제거





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