・ファインパターン形成　（現像・エッチング）

ミストジェット用ノズルから噴射されたミストが高圧エアーの力で失速することなくパターンの隙間に噴射され、 フォトレジストの現像では、従来の現像機によるシャワー方式（ポンプ式）では不可能であった ファインパターン形成が可能

・使用液量の低減　（現像・水洗・エッチング）

現像液・洗浄液・エッチング液等をミストジェット用ノズルから噴射するときに現像機にてミスト化し高圧エアーにて 噴霧するため、噴霧液量が従来の現像機によるポンプを使用したシャワー方式と比較して１／１０以下に低減可能。

・パターン裾引きの低減　（現像）

パターンの間に溜まった現像液を高圧エアーにて吹き飛ばしながらミスト化した現像液をパターンの隙間に吹き付けるため、 フォトレジストの膨潤が抑えられパターンのコーナー部まで現像されレジストパターンの裾引きが低減

・加工圧力のコントロール（現像・水洗・エッチング）

ミストジェット用ノズルに導入する現像液・洗浄液・エッチング液等の高圧液の圧力を高圧エアーにて制御し高圧エアーの 圧力制御は電空レギュレータを使用して精度良くコントロール可能。高圧液の圧力及び高圧エアーの圧力はタッチパネルより 自在に設定可能。