高圧ミスト式ドライフィルム現像機

・スリットノズルで高圧ミストにて現像

スリットノズルから少量の現像液を高圧エアーを使用して 現像機によりミスト化し現像液ミストを加速させながら効率よく現像可能。

・噴射圧力を任意に設定可能

高圧エアーを使用して現像機にて現像液を加圧することにより、 現像液の圧力及び噴射する高圧エアーの圧力を電空レギュレータ を使用して任意に設定可能。

・タッチパネルにより加工条件設定

ミストジェット用ノズルの移動幅・速度・噴射圧力等の加工条件を タッチパネルより任意に設定可能。

・現像液ミストの回収循環

噴射されたミストをブロワーの負圧によりミストジェット用サイクロンにて 回収し、再度加圧してスリットノズルより現像液を噴射

現像レベル

・サンドブラスト用フィルム

A）現像パターン：φ３６μm（膜厚５０μm）
B）現像パターン：φ３０μm（膜厚５０μm）
C）現像パターン：W６０μm（膜厚１００μm）
D）現像パターン：φ８０μm（膜厚１００μm）

・エッチング用ドライフィルム

A）現像パターン：W８μm　（膜厚２５μm）
B）現像パターン：W２５μm（膜厚８０μm

高圧ミスト式スクリーン版現像機

・大型スリットノズルで水をミスト化し現像

ミストジェット用大型スリットノズルから少量の水を高圧エアーを使用してミスト化し 水のミストを加速させながら現像機にて微細パターンを現像。

・大型スクリーン版対応

基板を縦に設置することにより１０５０�o×１０５０�oの大型スクリーンを高精度に製版可能に。

・厚膜製版でも微細パターンを製版可能

高圧エアー式スクリーン版現像機にて高圧ミストを吹き付け厚膜の乳剤も膨潤させないで微細パターンの製版が 可能に。

・現像用水の使用量が従来の１／１０以下に

少量の水をミスト化して噴射するため、従来のスクリーン版用現像機と比較して水の使用量が１／１０以下に 低減可能。

・タッチパネルより加工条件設定

スクリーン版現像機のノズル移動幅・速度・噴射圧力等の加工条件をタッチパネルより任意に設定可能。

大型スクリーン版現像機

EWB-4ARSC