ラミネータ

・薄膜の脆性材料に対応

テーブル式の採用で水晶・ガラス・シリコンウエハー等 の脆性材料も割れることなくラミネート可能

・１枚から無駄なくラミネート可能

ドライフィルムを切った状態から自動でラミネートを行い、 無駄なくドライフィルムを使用可能

露光機

・フィルムマスク・ガラスマスクを使用

パターンマスクとしてガラスマスクと フィルムマスクのどちらでも使用可能

・３０μmの微細パターンを露光可能

高精度ロッドインテグレータとコリメーションミラーにより 精度の高い露光が可能

高圧ミスト式現像機

・微細パターン・高アスペクト現像に対応

現像液をミスト化して噴射し現像を行うため、微細な隙間にも現像液が入り、 現像時も膨潤少なく厚膜のサンドブラスト用フォトレジストを使用して 微細なパターンを形成可能

・アルカリ現像・有機溶剤現像に対応

サンドブラスト用ドライフィルムを使用する場合はアルカリ 現像液を使用し、サンドブラスト用液レジを使用するときは 有機溶剤現像液使用

液状レジスト用スピンコーター

・液状レジストおよび保護膜等を塗布

液状レジストおよび保護膜等を遠心力により一定の膜圧に塗布

・塗布条件をパネルより入力可能

テーブル回転時間及び塗布時間等をタッチパネルより入力可能

サンドブラスト微細パターン加工プロセス