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エルフォミストジェットの用途フォトレジストの現像6μm12μm15μm6μm12μm15μm電鋳（メッキ）用ドライフィルムの現像サンドブラスト用ドライフィルムの現像エルフォミストジェット使用従来の現像機使用スクリーン製版の現像エルフォミストジェット使用従来の現像機使用その他感光性樹脂の現像35μm30μm35μm35μm30μm35μmフォトレジストの現像時に従来露光されている部分にも現像液が浸透することにより膨潤して細かいパターン形成ができなかった。ノズルから噴射された少量の現像液を高圧エアーにてミスト化し、そのミストが高圧エアーにて加速されながら噴射されることによりフォトレジストの膨潤を最小限に抑えながら現像することにより、より細かなパターンの現像が可能となる。感光性の電極材料や感光性ポリイミド等の感光性材料のパターン形成で、従来より細かいパターンが形成できる。スクリーン版の現像で従来と比較して1/10以下の水を使用してパターンの裾引きが無く従来より細かいパターンのスクリーン製版が可能になる。高圧洗浄ノズルから噴射された少量の洗浄液が高圧エアーにてミスト化し、加速され噴射されるため、細かい隙間でも洗浄液が高圧で吹き付けられ従来の1/10以下の少量の洗浄液でより効率の良い洗浄が可能となる。基板やスクリーン版等の洗浄有機溶剤系の現像液（水を混ぜて引火点を無くしてある）を高圧ミスト化して現像を行い、サンドブラスト耐性が高く微細なサンドブラスト用レジスト膜を形成できる。サンドブラスト用液レジ現像
